一、行業簡介
        半導體、集成電路芯片及封裝（zhuāng）、液晶（jīng）顯示、高精度線路板、光電器（qì）件、各種電子器件、微電子工業、大規（guī）模、超大規模集成電路需用大量的純水、高（gāo）純水、超純水（shuǐ）清洗半成品、成（chéng）品。集成（chéng）電路的集成（chéng）度越高，線（xiàn）寬越窄，對（duì）水質的要求也（yě）越高。目前我國電子工業部把電子級（jí）水質技術分為五（wǔ）個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
二、應用範圍
1、電子、電（diàn）力、電鍍、照明電器、實驗室、食（shí）品、造紙、日（rì）化（huà）、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物（wù）、製藥、石油、化工、鋼鐵、玻（bō）璃等領（lǐng）域。
2、化（huà）工工藝用水、化學藥劑、化妝品（pǐn）等用純水。
3、單晶矽（guī）、半導體（tǐ）晶片切割製造、半（bàn）導體芯（xīn）片、半導（dǎo）體封裝（zhuāng） 、引線（xiàn）櫃架、集（jí）成電路、液晶顯（xiǎn）示器（qì）、導電玻（bō）璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件（jiàn）、電容器潔淨產品及各（gè）種元（yuán）器件等生產工藝用純水。
三、工藝簡介
1、係統模（mó）塊化設計，共分四部分：預處理係統、反（fǎn）滲透係統、EDI係統、終端供水係統。
2、預處理係統主要用來去除原水中的懸浮物、濁度、色度、膠體以（yǐ）及部分（fèn）有機（jī）物（wù），保（bǎo）證產水符合反（fǎn）滲透係統的進水水質要（yào）求。
3、反滲透係統主要用來去除原（yuán）水中溶解性鹽類物質、細（xì）菌、熱（rè）源等，保證產水符合EDI係（xì）統進水水質要求。
4、EDI係統主要用來對反滲透產水進行進一步脫除溶解性的小分子（zǐ）鹽類物質，產水達到電阻率達到15MΩ.cm以上。
5、終端（duān）供水係統主要是用來將合格水輸送至用水點，輸送過程中對EDI產生進行最後的離子交換脫鹽，使得產水達到電阻率達到18MΩ.cm以上。
6、整個係統進行集中控製。

四、技術（shù）特色（sè）
1、係統模塊化（huà）設計，占地麵積小，操作維護方便，安裝（zhuāng）方便快捷，整體美觀。
2、整套係統（tǒng）實現全自動化運行，並且手動與自動自由切換。
3、設備產水水質穩定，運行（háng）連續穩定（dìng）。
4、係統工藝先進，無需化學藥品再生，無危害性（xìng）廢液排放。
5、係統節水率高，係統回（huí）收率在75%以上。
6、關鍵部位采用在線儀表監測，適時數據上傳。
五、設備參數（shù）
1、係統回收率：
        超濾≥90%
        一級反滲透≥75%
        二（èr）級反滲透≥85%
        EDI係統≥90%
2、設備產水符合《電子超純水國家標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或（huò）美國半（bàn）導體工業純水指標。
3、單支膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。